隨著社會飛速發(fā)展，前沿制造業(yè)也迎來了新的挑戰(zhàn)，在原有基礎上，如何應對嚴格要求做達到更加精細的水準，是所有行業(yè)都面臨的一個共同問題，今天帶大家了解一下在前沿制造行業(yè)生產(chǎn)表面平坦化過程中常用到的新型材料–CMP拋光液。

CMP拋光液的成分及功能是什么 ?

CMP拋光液即化學機械拋光液，以氧化硅拋光液為主，其主要組成成分為PH值調節(jié)劑，氧化劑，分散劑和研磨顆粒等。根據(jù)所需拋光材料的性質，選擇不同PH調節(jié)劑以及相應配方。金屬材料常選用酸性PH調節(jié)劑，效果更佳。而堿性拋光液則在非金屬材料拋光上表現(xiàn)更加突出。在CMP拋光液中添加氧化劑，可以通過化學反應在拋光物體表面形成氧化膜，便于后續(xù)的機械擦拭。分散劑將CMP拋光液中的研磨顆粒均勻分散開，以此來增強其穩(wěn)定性。研磨顆?？梢赃M行磨粒去除行為作用于加工工件表面，達到去除表面材料的目的。其磨粒能力取決于研磨顆粒的硬度，形狀以及顆粒直徑的大小以及研磨顆粒在拋光液中的質量濃度的多少等。

CMP拋光液的用途有哪些?

CMP拋光液在實際應用中用途廣泛，多應用于精密儀器的制造過程。如在LED芯片的制作過程中，芯片襯底材料藍寶石具有極高的硬度，使用普通的磨料通常會使其表面產(chǎn)生或大或小的劃痕，效果不佳。而CMP拋光液可通過“軟磨硬”的原理，對藍寶石表面進行精密拋光，效果很好。此外，CMP拋光液還常用于半導體工作中，隨著半導體工業(yè)的飛速發(fā)展，對于材料的拋光程度的要求更加嚴格，傳統(tǒng)的拋光技術只能進行平面化拋光，而CMP拋光液可以將拋光細節(jié)處理的更加完美，不留死角。

選擇新創(chuàng)納CMP拋光液的理由?

浙江新創(chuàng)納是一家專注于研發(fā)高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產(chǎn)和銷售公司，在CMP拋光液和拋光技術方面已申請并獲得發(fā)明專利兩百余項，廣泛應用于半導體、拋光等行業(yè)，年產(chǎn)能一萬多噸。負責CMP拋光液項目的研發(fā)的團隊是一支富有創(chuàng)新精神、高學歷、高素質的團隊，品質值得信賴。

以上就是對CMP拋光液的介紹，希望對拿您有所幫助。