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About Uscmp拋光液驗(yàn)證平臺(tái)
所屬分類:拋光驗(yàn)證平臺(tái) 發(fā)布時(shí)間:2021-03-23
新創(chuàng)納公司擁有非常完備的cmp拋光液驗(yàn)證設(shè)備,在cmp拋光液的開發(fā)研究中起著至關(guān)重要的作用,這些設(shè)備能夠滿足各種尺寸、材質(zhì)襯底材料的拋光液制成驗(yàn)證。
銅盤拋光機(jī)用于晶圓拋光制成前一道的銅拋制成。
CP-4測試機(jī)臺(tái)可以在線檢測拋光過程中的摩擦系統(tǒng)、溫度和聲學(xué)信息的變化,用于拋光過程中各種數(shù)據(jù)的收集,非常適合于拋光機(jī)理的研究。
32SPAW單面拋光機(jī),用于對金屬、陶瓷等材料所需拋光液的開發(fā)研究。
36GPAW單面軟拋機(jī),用于對藍(lán)寶石晶圓、化合物半導(dǎo)體等材料所需拋光液的開發(fā)研究。
50GPAW單面拋光機(jī),用于對大尺寸藍(lán)寶石晶圓、大尺寸硅片等材料所需拋光液的開發(fā)研究。
DSM 16B雙拋機(jī)用于對各種材料雙拋拋光液的開發(fā)研究。
超聲波清洗機(jī)用于拋光完后晶片的清洗,以便對拋光后的晶片表面進(jìn)行粗糙度和缺陷等情況的檢測。